在中科院科研裝備“擇優(yōu)支持”項目及力學所“十五裝備”項目的支持下，國家微重力實驗室建起“納米檢測光學測試系統(tǒng)”。系統(tǒng)由具有國際領(lǐng)先水平的光譜橢偏儀(Spec Ellipsometer)和近場光學顯微鏡(SNOM)組成，前者以相敏和光譜的優(yōu)勢為二維納米材料、多層納米介質(zhì)和生物分子膜層的定量光譜分析提供了高靈敏和高精度的檢測手段；后者的光探針提供了表征納尺度微觀光學性質(zhì)和無擾動探測柔性生物分子及其相互作用的能力，兩者的有機結(jié)合提供了一種跨尺度光學檢測平臺。

      光譜橢偏儀(Spec Ellipsometer)設(shè)備是一種高精度的薄膜和表面測量設(shè)備，被美國國家標準局作為確立材料參數(shù)的標準設(shè)備，膜厚測量精度可達原子層量級，材料介電系數(shù)的精度達10-3。設(shè)備完成安裝調(diào)試之后，已經(jīng)在蛋白質(zhì)芯片標定和超薄膜測量這類國際性難題中發(fā)揮了重要作用，相關(guān)結(jié)果在國際重要刊物Applied Optics，Spectroscopy等發(fā)表。

      近場光學顯微鏡(SNOM)是一種新型的納米尺度光學表征手段，突破了傳統(tǒng)光學顯微鏡的衍射分辨率限制，是掃描探針顯微鏡家族中的重要一員。該設(shè)備的反射模式、透射模式、剪切力模式等工作模式運行良好，性能指標也在實驗中得到了驗證。該系統(tǒng)已經(jīng)在生物芯片微觀表征，新型納米表面材料研究等方面顯示出獨特的作用，獲得高致病禽流感H5N1病毒和磷脂雙層膜在芯片表面分布的清晰近場圖像，相應結(jié)果發(fā)表在第4屆國際光譜橢偏大會上。

      為充分發(fā)揮該設(shè)備的使用效率，帶動相關(guān)學科領(lǐng)域的發(fā)展，積極推進設(shè)備的開放共享，近年來還為北京大學工學院、北京有色金屬研究總院、中國計量科學研究院等單位提供一系列科研測試服務，得到了滿意的結(jié)果。

      在未來的工作中，項目組將繼續(xù)發(fā)揮設(shè)備的性能優(yōu)勢，為實驗研究及理論探索提供保障，期待取得更多具有國際水準的成果。